Kain anti statik poliester berkualiti tinggi SMCC boleh dibahagikan kepada fabrik antistatik tenunan poliester dan fabrik antistatik lingkaran poliester.
Fabrik anti statik Poliester tenunan biasanya diperbuat daripada gentian poliester dan gentian konduktif. Fabrik ini mempunyai sifat antistatik yang sangat baik dan sesuai untuk pelbagai industri, terutamanya perlindungan alam sekitar, pembuatan plat berketumpatan tinggi, industri getah dan kimia. Fabrik ini boleh digunakan dalam peranti seperti penapis dan skrin untuk mencegah pengumpulan elektrostatik dan melindungi peralatan dan produk dengan berkesan.
Yang lain ialah fabrik antistatik poliester lingkaran. Fabrik ini biasanya direka dengan gentian lingkaran khas untuk meningkatkan kekonduksian elektrik. Selalunya digunakan dalam elektronik, bahan kimia, industri makanan dan persekitaran lain yang memerlukan perlindungan anti-statik kecekapan tinggi pelbagai peralatan penapisan dan penapisan.
Secara umum, fabrik antistatik poliester memainkan peranan penting dalam pelbagai aplikasi perindustrian. Ia boleh membebaskan elektrik statik geseran, melindungi peralatan dan produk, serta meningkatkan kecekapan dan kualiti produktiviti.
| Model daripada Kain |
Diameter Wayar(mm) | Ketumpatan (wayar/cm) | Kekuatan (N/cm) | Udara Kebolehtelapan (m3/m2j) |
||
| meledingkan | Pakan | meledingkan | Pakan | Luas permukaan | ||
| 4106/anti statik | 0.50 | 0.50 | 23 | 12 | ≥2000 | 6800±500 |
| 4080/anti statik | 0.90 | 1.1 | ≥2000 | 20000±500 | ||
Fabrik anti-statik poliester menggabungkan gentian konduktif ke dalam fabrik poliester, ini membebaskan elektrik statik geseran yang dijana apabila peralatan industri berjalan pada kelajuan tinggi, mengelakkan pelbagai kemungkinan masalah seperti percikan api, kejutan elektrik atau kerosakan peralatan.
Gentian konduktif dalam fabrik anti-statik poliester mampu melepaskan elektrik statik geseran, dengan itu melepaskan cas statik ke persekitaran sekeliling, mengelakkan pembentukan cas yang tidak diingini dan memberikan kesan anti-statik.